Rikkiheksafluoridi on kaasu, jolla on erinomaiset eristysominaisuudet, ja sitä käytetään usein suurjännitekaarisammuttimissa ja muuntajissa, suurjännitesiirtolinjoissa, muuntajissa jne. Näiden toimintojen lisäksi rikkiheksafluoridia voidaan kuitenkin käyttää myös elektronisena etsausaineena. .Elektroniikkalaatuinen erittäin puhdas rikkiheksafluoridi on ihanteellinen elektroninen etsausaine, jota käytetään laajasti mikroelektroniikan alalla.Tänään Niu Ruiden erikoiskaasueditori Yueyue esittelee rikkiheksafluoridin soveltamisen piinitridietsauksessa ja eri parametrien vaikutuksen.
Keskustelemme SF6-plasmaetsaus SiNx-prosessista, mukaan lukien plasmatehon muuttaminen, SF6/He-kaasusuhteen ja kationisen kaasun O2 lisääminen, keskustelemme sen vaikutuksesta TFT:n SiNx-elementin suojakerroksen etsausnopeuteen ja plasmasäteilyn käyttämiseen. spektrometri analysoi kunkin lajin konsentraatiomuutokset SF6/He-, SF6/He/O2-plasmassa ja SF6-dissosiaationopeuden sekä tutkii SiNx-syövytysnopeuden muutoksen ja plasman lajipitoisuuden välistä suhdetta.
Tutkimukset ovat havainneet, että kun plasman tehoa lisätään, etsausnopeus kasvaa;jos SF6:n virtausnopeutta plasmassa lisätään, F-atomin pitoisuus kasvaa ja korreloi positiivisesti syövytysnopeuden kanssa.Lisäksi sen jälkeen, kun kationinen kaasu O2 on lisätty kiinteän kokonaisvirtausnopeuden alle, se lisää syövytysnopeutta, mutta erilaisilla O2/SF6-virtaussuhteilla on erilaisia reaktiomekanismeja, jotka voidaan jakaa kolmeen osaan. : (1) O2/SF6-virtaussuhde on hyvin pieni, O2 voi auttaa SF6:n dissosiaatiossa ja etsausnopeus on tällä hetkellä suurempi kuin silloin, kun O2:ta ei lisätä.(2) Kun O2/SF6-virtaussuhde on suurempi kuin 0,2 väliin, joka lähestyy arvoa 1, etsausnopeus on tällä hetkellä suurin, koska SF6:n dissosiaatio on suuri F-atomien muodostamiseksi;mutta samaan aikaan myös plasman O-atomit lisääntyvät ja SiNx-kalvon pinnalla on helppo muodostaa SiOx tai SiNxO(yx), ja mitä enemmän O-atomeja kasvaa, sitä vaikeampaa F-atomit ovat etsausreaktio.Siksi syövytysnopeus alkaa hidastua, kun O2/SF6-suhde on lähellä 1:tä. (3) Kun O2/SF6-suhde on suurempi kuin 1, etsausnopeus laskee.O2:n suuren kasvun vuoksi dissosioituneet F-atomit törmäävät O2:n kanssa ja muodostavat OF:n, mikä vähentää F-atomien pitoisuutta, mikä johtaa etsausnopeuden laskuun.Tästä voidaan nähdä, että kun 02:ta lisätään, O2/SF6:n virtaussuhde on välillä 0,2-0,8 ja saadaan paras syövytysnopeus.
Postitusaika: 06.12.2021
